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  • 主營產(chǎn)品:

    便攜式焦?fàn)t紅外測溫儀,毛細(xì)吸水時間測定儀,深視力檢測儀,石油產(chǎn)品凝點(diǎn)測定儀,磷酸根分析儀,玻璃密度比較儀

    產(chǎn)品資料
    產(chǎn)品[

    射頻磁控濺射鍍膜裝置

    ]資料
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    產(chǎn)品名稱: 射頻磁控濺射鍍膜裝置
    產(chǎn)品型號: DH-RM-1
    產(chǎn)品廠商: 恒奧德
    產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔
    簡單介紹
        

    射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號:DH-RM-1 主要用途:本設(shè)備主要用于大院校研究和開發(fā)納米單層膜;如各種硬質(zhì)膜、金屬膜;也可以是非金屬、化合物等薄膜材料??梢孕兄苯訛R射,亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。

    射頻磁控濺射鍍膜裝置 的詳細(xì)介紹

    射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號:DH-RM-1

     

    主要用途:本設(shè)備主要用于大院校研究和開發(fā)納米單層膜;如各種硬質(zhì)膜、金屬膜;也可以是非金屬、化合物等薄膜材料??梢孕兄苯訛R射,亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。

     

    主要點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡捷、操作簡便,真空度維護(hù),安可靠。

     

    鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內(nèi),并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。

    1、地面的基本水平度要經(jīng)過調(diào)整,不得低不平;

    2、環(huán)境溫度:10℃~30℃;

    3、相對濕度:不大于75%;

    4、耗水量(水溫度≤25℃,2.5Kg≥水壓≥1.5Kg):約0.2T/h;

    5、水質(zhì)要求:

    矽酸硬度<6度,PH值:78,電導(dǎo)率:200us/cm,沉積率:<200mg/L。

    6、電壓: 220V,50HZ,

    電壓波動范圍: 198231V;

    頻率波動范圍:4951Hz;

    7、水壓:0.31Kg/cm20.030.1MPa/cm2;

    8、充入氣體純度99.9%或以上;

    9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

     

    設(shè)備規(guī)格參數(shù)
    1.1、濺射處理室:
           1、鐘罩:內(nèi)徑225mm×度260mm;
           2、試樣臺:直徑80mm(*);
           3、試樣旋轉(zhuǎn):靜止;
           4、擋板:手動;
           5、襯底加熱器:不銹鋼加熱器(DC24V);
           6、襯底溫度范圍:室溫~200℃;
           7、襯底可調(diào)距離:20mm~60mm;
           8、濺射室限真空:0.5Pa
    1.2、真空系統(tǒng):
           1、抽氣系統(tǒng):由機(jī)械泵組成的真空系統(tǒng);抽氣速率:4升/S
           2、真空檢測:電阻真空計(jì)、電阻規(guī);
           3、常用真空度:1~20Pa
           4、操作:手動
    1.3、濺射電源:
    1、射頻電源:頻率13.560MHZ,率:500W,用表示;
    2、阻抗匹配器范圍:(2.7~45)Ω-j(0~70)Ω; 
    3、供電:AC 220V;
    4、冷卻方式:風(fēng)冷;
      1.4、 磁控靶:
    1、靶材直徑:Ф50mm、 個磁靶;
    2、靶材厚度:3~6mm;
    1.5、氣系統(tǒng):2路轉(zhuǎn)子流量計(jì)氣,
    1.6、電源要求:AC 220V  50Hz  10A
    1.7、氣體要求:氬氣--純度99.9%(樣品有殊要求時使用純)
    1.8、冷卻要求:靶體水冷,濺射電源風(fēng)冷
    1.9、體積重量:體積:L550mm×W680mm×H1480mm;約120kg
     

     


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